journal article·1995-10

Electrical characterization of reactively sputtered TiN diffusion barrier layers for copper metallization

C. Kaufmann, J. Baumann, T. Gessner, T. Raschke, M. Rennau, N. Zichner

Applied Surface Science· Volume 91· Issue 1-4
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Abstract

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Research context

OpenAlex topics: Semiconductor materials and interfaces · Semiconductor materials and devices · Copper Interconnects and Reliability

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