Adsorption and desorption kinetics of tetrakis(dimethylamino)titanium and dimethylamine on TiN surfaces
Bibliographic record
Abstract
No abstract is available for this record. The assistant can identify its topic from the title, but cannot infer the study’s results.
Source: Not provided · Quality: missing
Research context
OpenAlex topics: Metal and Thin Film Mechanics · Semiconductor materials and devices · Copper Interconnects and Reliability
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
References (50)
Show source-provided references
1. Eizenberg · MRS Bull. · 1995 · 20 · 3810.1557/S0883769400045541 ↗
2. D.K. Ferry, M.N. Kozicki, G.B. Raupp, Some Fundamentals Issues on Metallization in VLSI, SPIE, San Jose, CA, 1991, p. 2.10.1117/12.51006 ↗
3. S.P. Murarka, Metallization: Theory and Practice for VLSI and ULSI, Butterworth-Heinemann, Boston, 1993.
4. Joshi · Appl. Phys. Lett. · 1992 · 61 · 261310.1063/1.108116 ↗
5. Corneille · J. Vac. Sci. Technol. A · 1995 · 13 · 111610.1116/1.579596 ↗
6. Wang · Jpn. J. Appl. Phys. · 1996 · 35 · 427410.1143/JJAP.35.4274 ↗
7. Musher · J. Mater. Res. · 1996 · 11 · 98910.1557/JMR.1996.0124 ↗
8. S.C. Selbrede, Chemical Vapor Deposition of Titanium Nitride using TiCl4 and Tert-butylamine, Mater. Res. Soc., Tempe, AZ, 1992, p. 359.
9. Hegde · Appl. Phys. Lett. · 1993 · 62 · 232610.1063/1.109406 ↗
10. Hegde · J. Vac. Sci. Technol. B · 1993 · 11 · 128710.1116/1.586931 ↗
11. Buiting · J. Electrochem. Soc. · 1991 · 138 · 50010.1149/1.2085618 ↗
12. Sherman · J. Electrochem. Soc. · 1990 · 137 · 189210.1149/1.2086826 ↗
13. Yokoyama · J. Electrochem. Soc. · 1991 · 138 · 19010.1149/1.2085535 ↗
14. Buiting · J. Electrochem. Soc. · 1992 · 139 · 258010.1149/1.2221267 ↗
15. Hegde · J. Vac. Sci. Technol. A · 1993 · 11 · 169210.1116/1.578480 ↗
16. Leutenecker · Thin Solid Films · 1995 · 270 · 62110.1016/0040-6090(95)06898-8 ↗
17. Katz · J. Appl. Phys. · 1991 · 70 · 366610.1063/1.349214 ↗
18. Fix · Chem. Mater. · 1990 · 2 · 23510.1021/cm00009a010 ↗
19. Sugiyama · J. Electrochem. Soc. · 1975 · 122 · 154510.1149/1.2134060 ↗
20. Paranjpe · J. Vac. Sci. Technol. B · 1995 · 13 · 210510.1116/1.588084 ↗
21. Eizenberg · Appl. Phys. Lett. · 1994 · 65 · 241610.1063/1.112693 ↗
22. Weiller · Chem. Mater. · 1994 · 6 · 26010.1021/cm00039a002 ↗
23. Chang · Jpn. J. Appl. Phys. · 1995 · 34 · L90710.1143/JJAP.34.L907 ↗
24. Dubois · J. Electrochem. Soc. · 1992 · 139 · 360310.1149/1.2087327 ↗
25. Sandhu · Appl. Phys. Lett. · 1993 · 62 · 24010.1063/1.108977 ↗
26. Fix · Chem. Mater. · 1991 · 3 · 113810.1021/cm00018a034 ↗
27. Ishihara · Jpn. J. Appl. Phys. · 1990 · 29 · 210310.1143/JJAP.29.2103 ↗
28. Intemann · J. Electrochem. Soc. · 1993 · 140 · 321510.1149/1.2221013 ↗
29. Musher · J. Electrochem. Soc. · 1996 · 143 · 73610.1149/1.1836510 ↗
30. Raaijmakers · Thin Solid Films · 1994 · 247 · 8510.1016/0040-6090(94)90479-0 ↗
31. Prybyla · J. Electrochem. Soc. · 1993 · 140 · 269510.1149/1.2220889 ↗
32. T.S. Cale, G.B. Raupp, J.T. Hillman, M.J. Rice Jr., Kinetics and Conformality of TiN Films From TDMAT and NH3, Mater. Res. Soc., Tempe, AZ, 1992, p. 195.
33. Cale · Thin Solid Films · 1993 · 236 · 29410.1016/0040-6090(93)90685-I ↗
34. Koehler · J. Chem. Phys. · 1988 · 89 · 170910.1063/1.455117 ↗
35. Sneh · J. Vac. Sci. Technol. A · 1995 · 13 · 49310.1116/1.579386 ↗
36. Donnelly · J. Vac. Sci. Technol. A · 1993 · 11 · 6610.1116/1.578721 ↗
37. Guinn · Surf. Sci. · 1993 · 295 · 21910.1016/0039-6028(93)90198-S ↗
38. L.E. Davis, N.C. MacDonald, P.W. Palmberg, G.E. Riach, R.E. Weber (Eds.), Handbook of Auger Electron Spectroscopy, Physical Electronics Division: Eden Prairie, 1978.
39. Card · Surf. Interface Anal. · 1995 · 23 · 49510.1002/sia.740230709 ↗
40. Dawson · Surf. Sci. · 1985 · 149 · 10510.1016/S0039-6028(85)80016-9 ↗
41. Valkonen · Appl. Opt. · 1986 · 25 · 362410.1364/AO.25.003624 ↗
42. Gupta · Phys. Rev. B · 1989 · 40 · 773910.1103/PhysRevB.40.7739 ↗
43. Gupta · J. Chem. Phys. · 1990 · 93 · 282710.1063/1.458868 ↗
44. Coon · J. Vac. Sci. Technol. A · 1992 · 10 · 32410.1116/1.578052 ↗
45. R.I. Masel, Principles of Adsorption and Reaction on Solid Surfaces, Wiley, New York, 1996.
46. George · J. Phys. Chem. · 1996 · 100 · 1312110.1021/jp9536763 ↗
47. O. Sneh, M.L. Wise, A.W. Ott, L.A. Okada, S.M. George, Surf. Sci. (1995) 135.10.1016/0039-6028(95)00471-8 ↗
48. Klaus · Appl. Phys. Lett. · 1997 · 70 · 109210.1063/1.118494 ↗
49. Dillon · Surf. Sci. · 1995 · 322 · 23010.1016/0039-6028(95)90033-0 ↗
50. Ott · Thin Solid Films · 1997 · 292 · 13510.1016/S0040-6090(96)08934-1 ↗