The influence of hydrogen and argon pressure on composition and optoelectronic properties of sputtered a-Si1−Ge :H (x ≈ 0.4)
Bibliographic record
Abstract
No abstract is available for this record. The assistant can identify its topic from the title, but cannot infer the study’s results.
Source: Not provided · Quality: missing
Research context
OpenAlex topics: Thin-Film Transistor Technologies · Silicon and Solar Cell Technologies · Silicon Nanostructures and Photoluminescence
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
References (40)
Show source-provided references
1. The physics of hydrogenated amorphous silicon, Pt. 1
2. Rübel · J. Vac. Sci. Technol. · 1986 · A4 · 185510.1116/1.573777 ↗
3. Pinarbasi · Thin Solid Films · 1989 · 171 · 21710.1016/0040-6090(89)90045-X ↗
4. Drüsedau · Phys. Status Solidi (a) · 1988 · 108 · 28510.1002/pssa.2211080129 ↗
5. Drüsedau · Phys. Status Solidi (b) · 1991 · 168 · K6510.1002/pssb.2221680231 ↗
6. MacKenzie · Phys. Rev. · 1985 · B31 · 219810.1103/PhysRevB.31.2198 ↗
7. Stutzmann · J. Appl. Phys. · 1989 · 66 · 56910.1063/1.343574 ↗
8. Rudder · J. Vac. Sci. Technol. · 1985 · A3 · 56710.1116/1.572995 ↗
9. Schröder · 1991 · 219 · 277
10. Martin · J. Non-Cryst. Solids · 1989 · 114 · 53710.1016/0022-3093(89)90642-X ↗
11. Karg · J. Non-Cryst. Solids · 1989 · 114 · 47710.1016/0022-3093(89)90622-4 ↗
12. Paul · 1991 · 219 · 211
13. T. Drüsedau and B. Schröder, to be published in J. Appl. Phys.
14. Manifacier · J. Phys. · 1976 · E9 · 1002
15. Drüsedau · J. Non-Cryst. Solids · 1991 · 135 · 20410.1016/0022-3093(91)90421-2 ↗
16. Jackson · Phys. Rev. · 1982 · B25 · 5569
17. Drüsedau · J. Non-Cryst. Solids · 1991 · 127 · 16510.1016/0022-3093(91)90139-W ↗
18. Cardona · Phys. Status Solidi (b) · 1983 · 118 · 46310.1002/pssb.2221180202 ↗
19. Savvides · J. Appl. Phys. · 1984 · 55 · 423210.1063/1.333024 ↗
20. Webb · J. Appl. Phys. · 1983 · 53 · 904310.1063/1.330413 ↗
21. The Physics of Hydrogenated Amorphous Silicon, Pt. 1
22. Veprek · Plasma Chem. Plasma Process · 1982 · 2 · 23310.1007/BF00566522 ↗
23. Paul · Phys. Rev. Lett. · 1981 · 46 · 101610.1103/PhysRevLett.46.1016 ↗
24. Moustakas · 1984 · Vol. 21A · 55
25. Lucovsky · 1981 · 87
26. Lucovsky · J. Non-Cryst. Solids · 1985 · 76 · 17310.1016/0022-3093(85)90061-4 ↗
27. Street · Philos. Mag. · 1987 · B56 · 28910.1080/13642818708221318 ↗
28. Oguz · Phys. Rev. · 1990 · B22 · 880
29. Beyer · J. Non-Cryst. Solids · 1987 · 97&98 · 102710.1016/0022-3093(87)90247-X ↗
30. Della Sala · J. Appl. Phys. · 1990 · 67 · 81410.1063/1.345737 ↗
31. Aljishi · 1988 · 887
32. Kocka · J. Non-Cryst. Solids · 1987 · 97&98 · 297
33. Watanabe · Jpn. J. Appl. Phys. · 1990 · 29 · 141910.1143/JJAP.29.1419 ↗
34. Basrour · Thin Solid Films · 1991 · 205 · 22310.1016/0040-6090(91)90304-G ↗
35. Schubert · J. Non-Cryst. Solids · 1989 · 114 · 52810.1016/0022-3093(89)90639-X ↗
36. Stutzmann · Philos. Mag. · 1989 · B60 · 53110.1080/13642818908205926 ↗
37. Ley · 1984 · Vol. 56 · 61
38. Davis · J. Phys. · 1987 · C20 · 4415
39. Wemple · Phys. Rev. · 1971 · B3
40. Wemple · Phys. Rev. · 1973 · B7 · 376710.1103/PhysRevB.7.3767 ↗