Directed Self-Assembly of Silicon-Containing Block Copolymer Thin Films
Source abstract
Abstract
The directed self-assembly (DSA) of lamella-forming poly(styrene-block-trimethylsilylstyrene) (PS-PTMSS, L0=22 nm) was achieved using a combination of tailored top interfaces and lithographically defined patterned substrates. Chemo- and grapho-epitaxy, using hydrogen silsesquioxane (HSQ) based prepatterns, achieved density multiplications up to 6× and trench space subdivisions up to 7×, respectively. These results establish the compatibility of DSA techniques with a high etch contrast, Si-containing BCP that requires a top coat neutral layer to enable orientation.
Source: openalex_inverted_index · Quality: baseline
Research context
OpenAlex topics: Block Copolymer Self-Assembly · Machine Learning in Materials Science · Advanced Polymer Synthesis and Characterization
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
Affiliations
IBM Research—Almaden, 650 Harry Road, San Jose, California 95120, United States
Funding
Welch Foundation · International Business Machines Corporation · Division of Graduate Education · Division of Engineering Education and Centers · Lam Research Corporation · National Science Foundation · Nissan Chemical Industries, Ltd.
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