Building-block-selective deposition of self-assembled monolayers for enhancing interface polarity in solution-processed thin film transistors
Source abstract
Abstract
A selective SAM deposition method was developed to functionalize only the glass substrate in glass/ITO templates. This strategy positively affected the interface dipole and improved charge transport in p-type, n-type, and ambipolar transistors.
Only a short abstract or summary was supplied by the source.
Source: crossref · Quality: short
Research context
OpenAlex topics: Semiconductor materials and devices · Nanowire Synthesis and Applications · ZnO doping and properties
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
Affiliations
Department of Chemical Engineering, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei 10607, Taiwan
Applied Physical Chemistry, Heidelberg University, 69120 Heidelberg, Germany
Taiwan Building Technology Center, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei 10607, Taiwan
Funding
Deutscher Akademischer Austauschdienst · National Science and Technology Council
References (44)
Show source-provided references
1. Nomura · Nature · 2004 · 432 · 48810.1038/nature03090 ↗
2. Yu · Sci. Rep. · 2019 · 9 · 841610.1038/s41598-019-44948-z ↗
3. Choi · Micromachines · 2020 · 11 · 103510.3390/mi11121035 ↗
4. Li · Chem. Rev. · 2024 · 124 · 213810.1021/acs.chemrev.3c00396 ↗
5. Kim · Nature · 2012 · 489 · 12810.1038/nature11434 ↗
6. Lee · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2021 · 13 · 282010.1021/acsami.0c18118 ↗
7. Zakhidov · Chem. Sci. · 2011 · 2 · 117810.1039/c0sc00612b ↗
8. Liang · Appl. Surf. Sci. · 2021 · 569 · 15102910.1016/j.apsusc.2021.151029 ↗
9. Stallings · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2021 · 13 · 1539910.1021/acsami.1c00249 ↗
10. Shin · IEEE Electron Device Lett. · 2024 · 45 · 70410.1109/LED.2024.3368129 ↗
11. Liu · J. Mater. Chem. C · 2023 · 11 · 900210.1039/D3TC00798G ↗
12. Nugraha · Adv. Mater. · 2024 · 2413157
13. Zhong · IEEE Trans. Electron Devices · 2022 · 69 · 239810.1109/TED.2022.3155709 ↗
14. Cai · Adv. Electron. Mater. · 2020 · 6 · 190142110.1002/aelm.201901421 ↗
15. Cai · ACS Appl. Electron. Mater. · 2020 · 2 · 30110.1021/acsaelm.9b00791 ↗
16. Ulman · Chem. Rev. · 1996 · 96 · 153310.1021/cr9502357 ↗
17. Haensch · Chem. Soc. Rev. · 2010 · 39 · 232310.1039/b920491a ↗
18. Wang · Ceram. Int. · 2024 · 50 · 553210.1016/j.ceramint.2023.11.308 ↗
19. Yue · Semicond. Sci. Technol. · 2024 · 39 · 6501210.1088/1361-6641/ad3e24 ↗
20. Ma · Phys. Chem. Chem. Phys. · 2012 · 14 · 1411010.1039/c2cp41557g ↗
21. Duan · Molecules · 2024 · 70610.3390/molecules29030706 ↗
22. Dubey · Langmuir · 2010 · 26 · 1474710.1021/la1021438 ↗
23. Paniagua · Chem. Rev. · 2016 · 116 · 711710.1021/acs.chemrev.6b00061 ↗
24. Mohamad Nor · ACS Omega · 2022 · 7 · 382310.1021/acsomega.1c07158 ↗
25. Wang · Chem. Soc. Rev. · 2021 · 50 · 650710.1039/D0CS01220C ↗
26. Schweiger · Surf. Coatings Technol. · 2014 · 258 · 124910.1016/j.surfcoat.2014.06.032 ↗
27. Hanson · J. Am. Chem. Soc. · 2003 · 125 · 1607410.1021/ja035956z ↗
28. Hanson · J. Am. Chem. Soc. · 2005 · 127 · 1005810.1021/ja050481s ↗
29. Peres · J. Phys. D: Appl. Phys. · 2017 · 50 · 13LT0110.1088/1361-6463/aa5f4a ↗
30. Kedem · Phys. Chem. Chem. Phys. · 2014 · 16 · 831010.1039/c3cp55083d ↗
31. Hofmann · J. Phys. Chem. C · 2017 · 121 · 2465710.1021/acs.jpcc.7b08451 ↗
32. Koldemir · J. Phys. Chem. Lett. · 2015 · 6 · 226910.1021/acs.jpclett.5b00420 ↗
33. Chen · Angew. Chem., Int. Ed. · 2024 · 202419375
34. Ronnasi · Adv. Electron. Mater. · 2024 · 10 · 230081010.1002/aelm.202300810 ↗
35. Qi · Small · 2024 · 20 · 231212210.1002/smll.202312122 ↗
36. Menon · J. Mater. Chem. C · 2024 · 12 · 730610.1039/D4TC00867G ↗
37. Hu · Chem. Mater. · 2024 · 36 · 74210.1021/acs.chemmater.3c02178 ↗
38. Yang · J. Mater. Chem. A · 2017 · 5 · 165810.1039/C6TA08783C ↗
39. He · J. Mater. Chem. A · 2024 · 12 · 1254510.1039/D4TA01039F ↗
40. Ali · Org. Electron. · 2018 · 53 · 1410.1016/j.orgel.2017.11.006 ↗
41. DiBenedetto · Adv. Mater. · 2009 · 21 · 140710.1002/adma.200803267 ↗
42. Wang · Adv. Mater. · 2018 · 30 · 170716410.1002/adma.201707164 ↗
43. Jiang · Angew. Chem., Int. Ed. · 2025 · 64 · e20241412810.1002/anie.202414128 ↗
44. Haneef · J. Mater. Chem. C · 2020 · 8 · 75910.1039/C9TC05695E ↗