journal article·2025

Stable operation of two-dimensional field-effect transistors with van der Waals integrated SrTiO 3 top-gate dielectrics

Yanran Liu, Allen Jian Yang, Shanhu Wang, Huiping Han, Jiayi Qin, Zhiwei Li, Tianli Jin, Josephine Si Yu See, Liang Wu, X. Renshaw Wang

Journal of Materials Chemistry C· Volume 13· Issue 39
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Abstract

We present high-performance top-gated monolayer MoS 2 FETs with STO films. STO protection provides excellent stability in air: devices retain performance after month-long air exposure and resist degradation under 100 °C thermal/electrical stress.
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Research context

OpenAlex topics: Electronic and Structural Properties of Oxides · Ferroelectric and Negative Capacitance Devices · 2D Materials and Applications

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Affiliations

Division of Physics and Applied Physics, School of Physical and Mathematical Sciences, Nanyang Technological University, Singapore, Singapore

Academy for Advanced Interdisciplinary Science and Technology, University of Science and Technology Beijing, Beijing, China,

Faculty of Material Science and Engineering, Kunming University of Science and Technology, Kunming, China

School of Electrical and Electronic Engineering, Nanyang Technological University, Singapore, Singapore,

Funding

Ministry of Education - Singapore

References (54)

Show source-provided references
1. Akinwande · Nat. Commun. · 2014 · 5 · 567810.1038/ncomms6678 ↗
2. Chhowalla · Nat. Rev. Mater. · 2016 · 1 · 1605210.1038/natrevmats.2016.52 ↗
3. Franklin · Science · 2015 · 349 · aab275010.1126/science.aab2750 ↗
4. Liu · Chem. Soc. Rev. · 2018 · 47 · 638810.1039/C8CS00318A ↗
5. Alam · IEEE Trans. Electron Devices · 2012 · 59 · 325010.1109/TED.2012.2218283 ↗
6. Cao · IEEE Trans. Electron Devices · 2015 · 62 · 345910.1109/TED.2015.2443039 ↗
7. S.Das , J. A.Robinson , M.Dubey , H.Terrones and M.Terrones , in Annual Review of Materials Research , ed. D. R. Clarke , 2015 , vol. 45, pp. 1–27
8. Hui · Microelectron. Eng. · 2016 · 163 · 11910.1016/j.mee.2016.06.015 ↗
9. Kim · ACS Nano · 2012 · 6 · 858310.1021/nn301675f ↗
10. Lan · npj 2D Mater. Appl. · 2025 · 9 · 810.1038/s41699-025-00527-7 ↗
11. Facchetti · Adv. Mater. · 2005 · 17 · 170510.1002/adma.200500517 ↗
12. Majewski · Adv. Funct. Mater. · 2005 · 15 · 101710.1002/adfm.200400570 ↗
13. Xu · Nat. Mater. · 2023 · 22 · 1010.1038/s41563-022-01442-8 ↗
14. Illarionov · Nat. Electron. · 2019 · 2 · 23010.1038/s41928-019-0256-8 ↗
15. Lee · ACS Nano · 2015 · 9 · 701910.1021/acsnano.5b01341 ↗
16. Hong · Adv. Mater. · 2024 · 36 · 9
17. Zhang · Adv. Mater. · 2025 · 37 · 12
18. Huang · Nature · 2022 · 605 · 26210.1038/s41586-022-04588-2 ↗
19. Yang · Nat. Electron. · 2022 · 5 · 23310.1038/s41928-022-00753-7 ↗
20. Kim · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2014 · 6 · 1951010.1021/am506629g ↗
21. Li · Nat. Electron. · 2024 · 7 · 21610.1038/s41928-024-01129-9 ↗
22. Bussmann · Nanotechnology · 2011 · 22 · 26570310.1088/0957-4484/22/26/265703 ↗
23. He · Front. Phys. · 2025 · 20 · 01430110.15302/frontphys.2025.014301 ↗
24. Yang · ACS Nano · 2023 · 17 · 974810.1021/acsnano.3c00429 ↗
25. Yang · Adv. Mater. · 2023 · 35 · 230262010.1002/adma.202302620 ↗
26. Bao · Appl. Phys. Lett. · 2013 · 102 · 04210410.1063/1.4789365 ↗
27. Bolshakov · Appl. Phys. Lett. · 2017 · 111 · 03211010.1063/1.4995242 ↗
28. Illarionov · 2D Mater. · 2016 · 3 · 03500410.1088/2053-1583/3/3/035004 ↗
29. Pan · Nanotechnology · 2019 · 30 · 09520210.1088/1361-6528/aaf956 ↗
30. Sheng · Adv. Electron. Mater. · 2021 · 7 · 200039510.1002/aelm.202000395 ↗
31. Sattari-Esfahlan · ACS Nano · 2025 · 19 · 1228810.1021/acsnano.5c01145 ↗
32. Xu · ACS Nano · 2011 · 5 · 234010.1021/nn200026e ↗
33. Liu · IEEE Trans. Electron Devices · 2023 · 147410.1109/TED.2022.3220483 ↗
34. Radisavljevic · Nat. Mater. · 2013 · 12 · 81510.1038/nmat3687 ↗
35. Kaasbjerg · Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. · 2012 · 85 · 11531710.1103/PhysRevB.85.115317 ↗
36. Ma · Phys. Rev. X · 2014 · 4 · 011043
37. Zou · Nano Lett. · 2013 · 13 · 25310.1021/nl3040042 ↗
38. Cheng · Nat. Electron. · 2022 · 5 · 41610.1038/s41928-022-00798-8 ↗
39. Smithe · 2D Mater. · 2017 · 4 · 01100910.1088/2053-1583/4/1/011009 ↗
40. Baugher · Nano Lett. · 2013 · 13 · 421210.1021/nl401916s ↗
41. Liu · IEEE Trans. Electron Devices · 2013 · 60 · 413310.1109/TED.2013.2284591 ↗
42. Sun · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2020 · 12 · 2063310.1021/acsami.0c01750 ↗
43. Farooq · J. Phys. D · 2025 · 58 · 05510310.1088/1361-6463/ad8f41 ↗
44. Guo · Appl. Phys. Lett. · 2015 · 106 · 10310910.1063/1.4914968 ↗
45. Huang · ACS Appl. Nano Mater. · 2025 · 8 · 580510.1021/acsanm.5c00540 ↗
46. Li · Appl. Phys. Lett. · 2014 · 105 · 09310710.1063/1.4894865 ↗
47. Zou · Adv. Mater. · 2016 · 28 · 206210.1002/adma.201505205 ↗
48. Li · Nat. Electron. · 2019 · 2 · 56310.1038/s41928-019-0334-y ↗
49. Liu · Nat. Electron. · 2021 · 4 · 90610.1038/s41928-021-00683-w ↗
50. Radisavljevic · Nat. Nanotechnol. · 2011 · 6 · 14710.1038/nnano.2010.279 ↗
51. Rasyotra · ACS Nano · 2025 · 19 · 1964610.1021/acsnano.4c18634 ↗
52. Sebastian · Nat. Commun. · 2021 · 12 · 1210.1038/s41467-020-20732-w ↗
53. Shen · ACS Nano · 2025 · 19 · 1690310.1021/acsnano.5c02341 ↗
54. Vu · 2D Mater. · 2018 · 5 · 03100110.1088/2053-1583/aab672 ↗