Lateral homojunctions of WSe 2 through contact surface engineering with SF 6 plasma etching
Source abstract
Abstract
SF 6 plasma etching was developed as a contact surface pre-treatment to achieve efficient n-doping in multilayer WSe 2 nanosheets and build lateral homojunctions exhibiting superb photovoltaic properties and self-powered wide-spectrum photodetection.
Source: crossref · Quality: baseline
Research context
OpenAlex topics: 2D Materials and Applications · Nanowire Synthesis and Applications · MXene and MAX Phase Materials
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
Affiliations
Hebei Key Laboratory of Photo-Electricity Information and Materials, College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, P. R. China
Funding
Natural Science Foundation of Hebei Province · Hebei University
References (43)
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