Line Patterns from Cylinder‐Forming Photocleavable Block Copolymers
Source abstract
Abstract
A robust route for the preparation of nanoscopic line patterns from polystyrene-block-poly(ethylene oxide) featuring a photocleavable o-nitrobenzyl ester junction is demonstrated. After mild UV (λ = 365 nm) exposure and selective removal of the PEO microdomains, the polymer trench patterns are used as scaffold to fabricate highly ordered arrays of silica or Au line patterns.
Source: openalex_inverted_index · Quality: baseline
Research context
OpenAlex topics: Block Copolymer Self-Assembly · Liquid Crystal Research Advancements · Advanced Polymer Synthesis and Characterization
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
References (47)
Show source-provided references
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