In situ ellipsometry and infrared analysis of PECVD SiO2 films deposited in an O2/TEOS helicon reactor
Bibliographic record
Abstract
No abstract is available for this record. The assistant can identify its topic from the title, but cannot infer the study’s results.
Source: Not provided · Quality: missing
Research context
OpenAlex topics: ZnO doping and properties · Thin-Film Transistor Technologies · Plasma Diagnostics and Applications
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
References (21)
Show source-provided references
1. Pai · Mater. Chem. Phys. · 1996 · 44 · 110.1016/0254-0584(95)01660-M ↗
2. Charles · J. Vac. Sci. Technol. · 1993 · A11 · 295410.1116/1.578675 ↗
3. Nishimito · Jpn. J. Appl. Phys. · 1995 · 34 · 76210.1143/JJAP.34.762 ↗
4. Drevillon · Rev. Sci. Instrum. · 1992 · 53 · 96910.1063/1.1137118 ↗
5. Nicolazo · 1996 · 322
6. Azzam · 1977
7. Deshmukh · J. Vac. Sci. Technol. · 1995 · A13 · 235510.1116/1.579521 ↗
8. Deshmukh · J. Vac. Sci. Technol. · 1996 · B14 · 73810.1116/1.588707 ↗
9. Palik · 1985
10. Aspnes · Appl. Opt. · 1975 · 14 · 22010.1364/AO.14.000220 ↗
11. Devine · J. Electron. Mater. · 1990 · 19 · 129910.1007/BF02673345 ↗
12. Theil · J. Vac. Sci. Technol. · 1990 · A8 · 137410.1116/1.576885 ↗
13. Selamoglu · J. Vac. Sci. Technol. · 1989 · B7 · 134510.1116/1.584536 ↗
14. He · Appl. Phys. Lett. · 1993 · 63 · 16210.1063/1.110386 ↗
15. Gruska · Thin Solid Films · 1993 · 233 · 24010.1016/0040-6090(93)90099-B ↗
16. Kirk · Phys. Rev. · 1988 · B38 · 125510.1103/PhysRevB.38.1255 ↗
17. Martinet · Appl. Phys. Lett. · 1995 · 67 · 269610.1063/1.114296 ↗
18. Ossikovski · J. Opt. Soc. Am. · 1995 · A12 · 179710.1364/JOSAA.12.001797 ↗
19. Pai · J. Vac. Sci. Technol. · 1986 · A4 · 68910.1116/1.573833 ↗
20. Montero · Phys. Rev. · 1994 · B50 · 488110.1103/PhysRevB.50.4881 ↗
21. Stout · J. Vac. Sci. Technol. · 1993 · A11 · 256210.1116/1.578607 ↗