journal article·1995-06

Enhanced adhesion of copper to dielectrics via titanium and chromium additions and sacrificial reactions

S.W. Russell, S.A. Rafalski, R.L. Spreitzer, J. Li, M. Moinpour, F. Moghadam, T.L. Alford

Thin Solid Films· Volume 262· Issue 1-2
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Abstract

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Research context

OpenAlex topics: Copper Interconnects and Reliability · Metal and Thin Film Mechanics · Semiconductor materials and devices

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