Structural Design of a Low-Dk, Low-CTE Negative Photoresist Polyimide with Water-Based Development Capability and Low-Temperature Curing Properties
Bibliographic record
Abstract
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Source: Not provided · Quality: missing
Research context
OpenAlex topics: Synthesis and properties of polymers · Nanofabrication and Lithography Techniques · Advancements in Photolithography Techniques
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Affiliations
Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, No. 5625, Renmin Avenue, Changchun, Jilin 130022, China
School of Applied Chemistry and Engineering
University of Science and Technology of China
Funding
The National Key Research and Development Program
References (50)
Show source-provided references
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