Reduced material loss caused by Electron Beam Lithography in thin-film lithium niobate through post-process annealing
Bibliographic record
Abstract
No abstract is available for this record. The assistant can identify its topic from the title, but cannot infer the study’s results.
Source: Not provided · Quality: missing
Research context
OpenAlex topics: Photorefractive and Nonlinear Optics · Photonic and Optical Devices · Advanced Fiber Laser Technologies
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
References (25)
Show source-provided references
1. Zhu · Adv. Opt Photon · 2021 · 13 · 24210.1364/AOP.411024 ↗
2. Moretti · J. Appl. Phys. · 2005 · 9810.1063/1.1988987 ↗
3. Schmidt · Appl. Phys. Lett. · 1974 · 25 · 45810.1063/1.1655547 ↗
4. Jackel · Appl. Phys. Lett. · 1982 · 41 · 60710.1063/1.93615 ↗
5. Zhang · Optica · 2017 · 4
6. Zhang · Nature · 2019 · 568 · 37310.1038/s41586-019-1008-7 ↗
7. Lomonte · Nat. Commun. · 2021 · 12 · 684710.1038/s41467-021-27205-8 ↗
8. Wang · Nature · 2018 · 562 · 10110.1038/s41586-018-0551-y ↗
9. Kharel · Optica · 2021 · 8
10. Volk · 2009 · 153
11. Poberaj · Laser Photon. Rev. · 2012 · 6 · 48810.1002/lpor.201100035 ↗
12. Shams-Ansari · APL Photonics · 2022 · 710.1063/5.0095146 ↗
13. Gao · Chin. Opt Lett. · 2022 · 20
14. Zhuang · Adv. Mater. · 2023 · 35
15. McCaffrey · Ultramicroscopy · 2001 · 87 · 9710.1016/S0304-3991(00)00096-6 ↗
16. Chen · Microelectron. Eng. · 2015 · 135 · 5710.1016/j.mee.2015.02.042 ↗
17. Peng · Sci. Adv. · 2023 · 9
18. Owen · J. Appl. Phys. · 1983 · 54 · 357310.1063/1.332426 ↗
19. Egerton · Micron · 2004 · 35 · 39910.1016/j.micron.2004.02.003 ↗
20. Ge · Opt. Mater. Express · 2019 · 910.1364/OME.9.001632 ↗
21. Han · Opt. Mater. · 2015 · 42 · 4710.1016/j.optmat.2014.12.016 ↗
22. Bogaerts · Laser Photon. Rev. · 2012 · 6 · 4710.1002/lpor.201100017 ↗
23. Puma · 2022
24. Kong · Adv. Mater. · 2020 · 32
25. Xu · Opt Express · 2021 · 29 · 549710.1364/OE.418877 ↗