Twist angle-dependent work functions in CVD-grown twisted bilayer graphene probed by Kelvin probe force microscopy
Source abstract
Abstract
KPFM and Raman spectral measurements. With the increase in the twist angle, the work function of tBLG will increase rapidly and then increase slowly when it is greater than 5°. The thermal stability of tBLG was investigated through a controlled annealing process. tBLG will become Bernal-stacked BLG after annealing at 350 °C. Our work provides the twist angle-dependent surface potentials of tBLG and provides the relevant conditions for the stability of the twist angle, which lays the foundation for further exploration of its twist angle-dependent electronic properties.
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Research context
OpenAlex topics: Graphene research and applications · Force Microscopy Techniques and Applications · Molecular Junctions and Nanostructures
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Affiliations
Beijing Key Laboratory of Optoelectronic Functional Materials & Micro-nano Devices, Department of Physics, Renmin University of China, Beijing 100872, China
Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, P.O. Box 603, Beijing 100190, China
Funding
Ministry of Science and Technology of the People's Republic of China · Chinese Academy of Sciences · Fundamental Research Funds for the Central Universities · Renmin University of China · National Natural Science Foundation of China
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