journal article·2000-08-30Open access

Estudio de la incorporación de iones de Er y Nd en galio antimonio crecido por el método Bridgman

J. L. Plaza, P. Hidalgo, J. Piqueras, E. Diéguez

Abstract

En este trabajo se ha realizado el estudio de cristales de GaSb crecidos por el método Bridgman y dopados con Er y Nd con distintas concentraciones. Se han realizado análisis de absorción atómica pudiéndose obtener el coeficiente de segregación efectivo de ambos dopantes a lo largo de la dirección de crecimiento del material. Mediante medidas de efecto Hall se ha determinado el tipo de portadores mayoritarios (huecos) así como los valores de la movilidad, la densidad de portadores y la resistividad para cada una de las concentraciones. Los análisis de dispersión de energías de rayos X (EDAX) y de microscopio electrónico de barrido (SEM) han demostrado la presencia de agregados formados por los iones de tierras raras y Sb para las concentraciones de dopante más altas. La reducción de los defectos nativos tales como las vacantes de Ga y Ga en posición de Sb por los iones de Er ha sido también demostrado a través de análisis de catodoluminiscencia.
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Research context

OpenAlex topics: Semiconductor materials and devices · Silicon Nanostructures and Photoluminescence · Semiconductor materials and interfaces

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