Capillary-filling-regulated direct soft imprint lithography for coffee-ring- and residue-free stacked-layer patterning
Source abstract
Abstract
A coffee-ring-free and residue-free direct soft imprint lithography is achieved via a capillary-filling regulation strategy, enabling high-fidelity stacked-layer device patterning.
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Research context
OpenAlex topics: Nanofabrication and Lithography Techniques · Nanomaterials and Printing Technologies · Microfluidic and Capillary Electrophoresis Applications
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Affiliations
Guangdong Basic Research Center of Excellence for Energy & Information Polymer Materials, State Key Laboratory of Luminescent Materials and Devices, South China University of Technology, Wushan Road 381, Guangzhou, 510640, P. R. China
Funding
National Natural Science Foundation of China · National Science and Technology Major Project · National Key Research and Development Program of China · Natural Science Foundation of Guangdong Province
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