High-aspect-ratio photoresist nanopillar arrays with broadband near-perfect optical absorption performance using PDMS-assisted colloidal lithography
Source abstract
Abstract
By PDMS-assisted colloidal lithography, high-aspect-ratio microstructures were employed as the structure for the successful fabrication of broadband near-perfect optical absorbers.
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Research context
OpenAlex topics: Photonic Crystals and Applications · Plasmonic and Surface Plasmon Research · Nonlinear Optical Materials Studies
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Affiliations
Key Laboratory of Luminescence and Optical Information, Ministry of Education, Institute of Optoelectronic Technology, Beijing Jiaotong University, 100044, Beijing, P. R. China
Funding
National Natural Science Foundation of China
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