journal article·2013

Nonvolatile resistive memory devices based on Ag

Zhiwen Jin, Guo Liu, Jizheng Wang

Journal of Materials Chemistry C· Volume 1· Issue 20
Publisher page

Abstract

Ag-based nonvolatile resistive memory devices are fabricated with the help of a simple soft-chemical process, which can transform Ag film into Ag2S/Ag nano-flake film. A very high ON/OFF ratio of 2.35 × 108 and satisfactory retention time of larger than 104 s are achieved. The redox reaction Ag+ (Ag2S) + e− → Ag at the Ag2S/Ag interface induced the filamentary conduction that is responsible for the observed memory effects.
Source: openalex_inverted_index · Quality: baseline

Research context

OpenAlex topics: Advanced Memory and Neural Computing · Ferroelectric and Negative Capacitance Devices · Neuroscience and Neural Engineering

SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.

References (32)

Show source-provided references
1. Fuhrer · Nano Lett. · 2002 · 2 · 75510.1021/nl025577o ↗
2. Singh · Appl. Phys. Lett. · 2004 · 85 · 540910.1063/1.1828236 ↗
3. Fu · Nano Lett. · 2009 · 9 · 92110.1021/nl801656w ↗
4. Hwang · Adv. Mater. · 2012 · 24 · 591010.1002/adma.201201831 ↗
5. Naber · Adv. Mater. · 2010 · 22 · 93310.1002/adma.200900759 ↗
6. Wang · Appl. Phys. Lett. · 2012 · 100 · 21330310.1063/1.4721518 ↗
7. Lee · J. Mater. Chem. · 2011 · 21 · 1409710.1039/c1jm11050k ↗
8. Mikolajick · Adv. Eng. Mater. · 2009 · 11 · 23510.1002/adem.200800294 ↗
9. Hwang · Nano Lett. · 2012 · 12 · 221710.1021/nl204039q ↗
10. Ling · J. Am. Chem. Soc. · 2006 · 128 · 873210.1021/ja062489n ↗
11. Guo · Appl. Phys. Lett. · 2007 · 91 · 13351310.1063/1.2793686 ↗
12. Coskun · Chem. Soc. Rev. · 2012 · 41 · 482710.1039/c2cs35053j ↗
13. Scott · Adv. Mater. · 2007 · 19 · 145210.1002/adma.200602564 ↗
14. Cölle · Org. Electron. · 2006 · 7 · 30510.1016/j.orgel.2006.03.014 ↗
15. Waser · Nat. Mater. · 2007 · 6 · 83310.1038/nmat2023 ↗
16. Tseng · Nano Lett. · 2005 · 5 · 107710.1021/nl050587l ↗
17. Tseng · Nat. Nanotechnol. · 2006 · 1 · 7210.1038/nnano.2006.55 ↗
18. Rose · Phys. Rev. · 1955 · 97 · 153810.1103/PhysRev.97.1538 ↗
19. Lampert · Phys. Rev. · 1956 · 103 · 164810.1103/PhysRev.103.1648 ↗
20. Likharev · Appl. Phys. Lett. · 1998 · 73 · 213710.1063/1.122402 ↗
21. Liu · Adv. Mater. · 2012 · 24 · 290110.1002/adma.201104307 ↗
22. Ha · J. Appl. Phys. · 2011 · 110 · 07110110.1063/1.3640806 ↗
23. Wang · J. Appl. Phys. · 2010 · 108 · 11411010.1063/1.3518514 ↗
24. Bozano · Appl. Phys. Lett. · 2004 · 84 · 60710.1063/1.1643547 ↗
25. Chu · Adv. Mater. · 2005 · 17 · 144010.1002/adma.200500225 ↗
26. Han · J. Mater. Chem. · 2012 · 22 · 1900710.1039/c2jm32767h ↗
27. Verbakel · J. Phys. Chem. C · 2008 · 112 · 525410.1021/jp800624u ↗
28. Lee · Nat. Mater. · 2011 · 10 · 62510.1038/nmat3070 ↗
29. Lee · ACS Nano · 2012 · 6 · 816610.1021/nn3028776 ↗
30. Gamerith · Adv. Funct. Mater. · 2007 · 17 · 311110.1002/adfm.200600762 ↗
31. Caironi · ACS Nano · 2010 · 4 · 145110.1021/nn9014664 ↗
32. Lei · J. Am. Chem. Soc. · 2012 · 134 · 1739210.1021/ja307521t ↗