On the mechanical and electrical properties of self-assembly-based organosilicate porous films
Source abstract
Abstract
The effect of the replacement of Si–O–Si by Si–CH 2 –Si groups on the mechanical and electrical properties of silica-based hybrid sol–gel thin films is reported.
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Research context
OpenAlex topics: Mesoporous Materials and Catalysis · Silicone and Siloxane Chemistry · Copper Interconnects and Reliability
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Affiliations
Imec
Leuven 3001
Belgium
Centre for Ordered Materials
Organometallics & Catalysis (COMOC)
Department of Chemistry
KU Leuven
Elettra-Sincrotrone Trieste
Basovizza
Italy
Department of Inorganic and Physical Chemistry
Ghent University
Ghent 9000
References (71)
Show source-provided references
1. Faustini · Chem. Mater. · 2010 · 22 · 440610.1021/cm100937e ↗
2. Ye · RSC Adv. · 2014 · 4 · 3581810.1039/C4RA05309E ↗
3. Van der Voort · Chem. Soc. Rev. · 2013 · 42 · 391310.1039/C2CS35222B ↗
4. Arcos · Acta Biomater. · 2010 · 6 · 287410.1016/j.actbio.2010.02.012 ↗
5. Sanchez · Chem. Mater. · 2008 · 20 · 68210.1021/cm702100t ↗
6. Michalak · J. Mater. Res. · 2015 · 30 · 336310.1557/jmr.2015.313 ↗
7. Todd Ryan · J. Appl. Phys. · 2014 · 115 · 14410710.1063/1.4870453 ↗
8. Grill · Appl. Phys. Rev. · 2014 · 1 · 1130610.1063/1.4861876 ↗
9. Oliver · Adv. Funct. Mater. · 2010 · 20 · 288410.1002/adfm.201000558 ↗
10. Li · Acta Mater. · 2011 · 59 · 4410.1016/j.actamat.2010.08.015 ↗
11. Dubois · Adv. Mater. · 2007 · 19 · 398910.1002/adma.200701193 ↗
12. Dubois · J. Sol–Gel Sci. Technol. · 2008 · 48 · 18710.1007/s10971-008-1776-2 ↗
13. Kayaba · J. Phys. Chem. C · 2011 · 115 · 1298110.1021/jp202957f ↗
14. Matsuda · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2012 · 4 · 265910.1021/am300312y ↗
15. Rathore · Adv. Funct. Mater. · 2008 · 18 · 402210.1002/adfm.200801197 ↗
16. Guo · J. Vac. Sci. Technol., A · 2014 · 32 · 3151210.1116/1.4871680 ↗
17. Guo · J. Appl. Phys. · 2013 · 114 · 8410310.1063/1.4817917 ↗
18. De Vos · J. Membr. Sci. · 1999 · 158 · 27710.1016/S0376-7388(99)00035-6 ↗
19. Kim · J. Electrochem. Soc. · 2004 · 151 · F3710.1149/1.1643072 ↗
20. Castricum · J. Sol-Gel Sci. Technol. · 2008 · 48 · 1110.1007/s10971-008-1742-z ↗
21. Kanezashi · Ind. Eng. Chem. Res. · 2012 · 51 · 94410.1021/ie201606k ↗
22. M. Aliofkhazraei , Comprehensive guide for mesoporous materials, 2015
23. Tate · Langmuir · 2010 · 26 · 435710.1021/la903443p ↗
24. Jung · J. Colloid Interface Sci. · 2008 · 320 · 52710.1016/j.jcis.2008.01.003 ↗
25. Ha · Ceram. Int. · 2008 · 34 · 94710.1016/j.ceramint.2007.09.070 ↗
26. Malfatti · Microporous Mesoporous Mater. · 2007 · 103 · 11310.1016/j.micromeso.2007.01.033 ↗
27. Matheron · Thin Solid Films · 2006 · 495 · 17510.1016/j.tsf.2005.08.262 ↗
28. Matheron · Soft Matter · 2007 · 3 · 22310.1039/B612408A ↗
29. Matheron · J. Mater. Chem. · 2005 · 15 · 474110.1039/b510554d ↗
30. Brinker · J. Non-Cryst. Solids · 1988 · 100 · 3110.1016/0022-3093(88)90005-1 ↗
31. Baklanov · Microelectron. Eng. · 2002 · 64 · 33510.1016/S0167-9317(02)00807-9 ↗
32. Baklanov · Microelectron. Eng. · 2006 · 83 · 228710.1016/j.mee.2006.10.019 ↗
33. Ciofi · Microelectron. Eng. · 2010 · 87 · 239110.1016/j.mee.2010.04.014 ↗
34. Asefa · Angew. Chem., Int. Ed. · 2000 · 39 · 180810.1002/(SICI)1521-3773(20000515)39:10<1808::AID-ANIE1808>3.0.CO;2-G ↗
35. Han · J. Electrochem. Soc. · 2001 · 148 · F14810.1149/1.1375797 ↗
36. Yasuhara · J. Phys. D: Appl. Phys. · 2010 · 43 · 6520310.1088/0022-3727/43/6/065203 ↗
37. Grill · J. Appl. Phys. · 2003 · 94 · 669710.1063/1.1618358 ↗
38. Chen · Microporous Mesoporous Mater. · 2012 · 162 · 18110.1016/j.micromeso.2012.05.042 ↗
39. Lyu · Eur. Polym. J. · 2004 · 40 · 250510.1016/j.eurpolymj.2004.06.018 ↗
40. Zenasni · J. Electrochem. Soc. · 2007 · 154 · G610.1149/1.2353784 ↗
41. Ro · Chem. Mater. · 2010 · 22 · 133010.1021/cm901771y ↗
42. Abe · J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. · 1995 · 33 · 75110.1002/pola.1995.080330416 ↗
43. Heo · Thin Solid Films · 2007 · 515 · 503510.1016/j.tsf.2006.10.095 ↗
44. Rau · Thin Solid Films · 1994 · 249 · 2810.1016/0040-6090(94)90081-7 ↗
45. Vanstreels · Langmuir · 2013 · 29 · 1202510.1021/la402383g ↗
46. Grill · J. Appl. Phys. · 2008 · 104 · 2411310.1063/1.2959341 ↗
47. Darnon · J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct. · 2013 · 31 · 1120710.1116/1.4770505 ↗
48. Kim · J. Appl. Phys. · 2001 · 90 · 336710.1063/1.1402152 ↗
49. Lucovsky · J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct. · 1987 · 5 · 53010.1116/1.583944 ↗
50. Fan · Nat. Mater. · 2007 · 6 · 41810.1038/nmat1913 ↗
51. Babonneau · J. Appl. Crystallogr. · 2010 · 43 · 92910.1107/S0021889810020352 ↗
52. Percus · Phys. Rev. · 1958 · 110 · 110.1103/PhysRev.110.1 ↗
53. Chatterjee · Soft Matter · 2012 · 8 · 295610.1039/c2sm06982b ↗
54. Förster · Adv. Colloid Interface Sci. · 2011 · 163 · 5310.1016/j.cis.2010.12.003 ↗
55. Pedersen · J. Appl. Crystallogr. · 1994 · 27 · 59510.1107/S0021889893013810 ↗
56. Zenasni · J. Appl. Phys. · 2007 · 102 · 9410710.1063/1.2805451 ↗
57. Redzheb · Microelectron. Eng. · 2016 · 156 · 10310.1016/j.mee.2016.02.001 ↗
58. Zenasni · Thin Solid Films · 2008 · 516 · 109710.1016/j.tsf.2007.05.010 ↗
59. Kim · J. Mater. Sci. · 2007 · 42 · 538110.1007/s10853-006-0886-x ↗
60. Ro · Adv. Mater. · 2007 · 19 · 70510.1002/adma.200601528 ↗
61. M. Baklanov , K.Maex and M.Green, Dielectric Films for Advanced Microelectronics, John Wiley & Sons, Ltd, Chichester, UK, 200710.1002/9780470017944 ↗
62. Okudur · J. Appl. Phys. · 2016 · 119 · 2530210.1063/1.4939284 ↗
63. Volksen · ECS J. Solid State Sci. Technol. · 2012 · 1 · N8510.1149/2.013205jss ↗
64. C. Brinker and G.Scherer, Sol–gel science: the physics and chemistry of sol–gel processing, 1990
65. Yu · J. Electrochem. Soc. · 2003 · 150 · F11610.1149/1.1566021 ↗
66. Assink · Annu. Rev. Mater. Sci. · 1991 · 21 · 49110.1146/annurev.ms.21.080191.002423 ↗
67. Grill · J. Vac. Sci. Technol., B · 2016 · 34 · 2080110.1116/1.4943049 ↗
68. Zhang · Appl. Phys. Lett. · 2015 · 107 · 9290110.1063/1.4930072 ↗
69. E. Nicollian , J.Brews and E.Nicollian, MOS (metal oxide semiconductor) physics and technology, Wiley, New York, 1982
70. Ting · J. Electrochem. Soc. · 2007 · 154 · G110.1149/1.2388852 ↗
71. Sinha · Appl. Phys. Lett. · 2010 · 96 · 10