Extreme ultraviolet induced reactions of tin–oxo cage photoresists
Source abstract
Abstract
Upon EUV irradiation, n -butyltin–oxo cages release butene, butane and octane with an initial quantum yield of 5 Sn–C bond breaks per absorbed photon (92 eV). To render the resist film insoluble only 2 Sn–C bonds (on average) need to be broken.
Only a short abstract or summary was supplied by the source.
Source: crossref · Quality: short
Research context
OpenAlex topics: Advancements in Photolithography Techniques · Optical Coatings and Gratings · Nanofabrication and Lithography Techniques
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
Affiliations
Advanced Research Center for Nanolithography, P.O. Box 93019, 1090 BA Amsterdam, The Netherlands
PSI Center for Photon Science, Paul Scherrer Institut, Villigen 5232, Switzerland
Imec, Kapeldreef 75, B3001 Leuven, Belgium
University of Amsterdam, van’t Hoff Institute for Molecular Sciences, P.O. Box 94157, 1090 GD Amsterdam, The Netherlands
Funding
Paul Scherrer Institut
References (82)
Show source-provided references
1. Miyazaki · J. Photopolym. Sci. Technol. · 2019 · 32 · 19510.2494/photopolymer.32.195 ↗
2. Levinson · Jpn. J. Appl. Phys. · 2022 · 61 · SD080310.35848/1347-4065/ac49fa ↗
3. Neisser · Computer · 2024 · 57 · 5110.1109/mc.2023.3312767 ↗
4. Lio · Synchrotron Radiat. News · 2019 · 32 · 910.1080/08940886.2019.1634431 ↗
5. Kozawa · Jpn. J. Appl. Phys. · 2010 · 49 · 03000110.1143/JJAP.49.030001 ↗
6. Wang · Mater. Today · 2023 · 67 · 9510.1016/j.mattod.2023.06.005 ↗
7. Torok · J. Photopolym. Sci. Technol. · 2013 · 26 · 62510.2494/photopolymer.26.625 ↗
8. Ito · J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. · 2003 · 41 · 386310.1002/pola.10963 ↗
9. H.Ito , Chemical Amplification Resists for Microlithography . Microlithography Molecular Imprinting: Advances in Polymer Science , 2005 , pp. 37–24510.1007/b97574 ↗
10. Sanders · Chem. Rev. · 2010 · 110 · 32110.1021/cr900244n ↗
11. Brainard · J. Photopolym. Sci. Technol. · 2008 · 21 · 45710.2494/photopolymer.21.457 ↗
12. Hirose · Appl. Phys. Expr. · 2008 · 1 · 02700410.1143/apex.1.027004 ↗
13. Higgins · Jpn. J. Appl. Phys. · 2011 · 50 · 03650410.1143/jjap.50.036504 ↗
14. Oleksak · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2014 · 6 · 291710.1021/am405463u ↗
15. Oleksak · ACS Appl. Nano Mater. · 2018 · 1 · 454810.1021/acsanm.8b00865 ↗
16. Peter · ACS Appl. Polym. Mater. · 2020 · 2 · 179010.1021/acsapm.0c00005 ↗
17. Nandi · ACS Appl. Nano Mater. · 2022 · 5 · 1026810.1021/acsanm.2c01321 ↗
18. Wang · J. Microelectron. Manuf. · 2021 · 4 · 2104010110.33079/jomm.21040101 ↗
19. Lim · Coord. Chem. Rev. · 2023 · 493 · 21530710.1016/j.ccr.2023.215307 ↗
20. Ober · Polymer · 2023 · 280 · 12602010.1016/j.polymer.2023.126020 ↗
21. Kozawa · Jpn. J. Appl. Phys. · 2024 · 63 · 05010110.35848/1347-4065/ad3a4c ↗
22. Si · Sci. China Mater. · 2024 · 67 · 158810.1007/s40843-023-2827-8 ↗
23. Zhang · ACSNano · 2025 · 19 · 3824310.1021/acsnano.5c06472 ↗
24. Zhou · Sci. Adv. · 2025 · 11 · eadx191810.1126/sciadv.adx1918 ↗
25. Fallica · J. Micro/Nanolithogr., MEMS, MOEMS · 2016 · 15 · 03350610.1117/1.JMM.15.3.033506 ↗
26. Cardineau · Microelectron. Eng. · 2014 · 127 · 4410.1016/j.mee.2014.04.024 ↗
27. Haitjema · J. Micro/Nanolithogr., MEMS, MOEMS · 2017 · 16 · 03351010.1117/1.JMM.16.3.033510 ↗
28. Zhang · J. Micro/Nanolithogr., MEMS, MOEMS · 2017 · 16 · 02351010.1117/1.JMM.16.2.023510 ↗
29. Frederick · Microelectron. Eng. · 2019 · 205 · 2610.1016/j.mee.2018.11.011 ↗
30. Kenane · Inorg. Chem. · 2020 · 59 · 393410.1021/acs.inorgchem.9b03589 ↗
31. Kenane · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2021 · 13 · 1897410.1021/acsami.0c21942 ↗
32. Fallica · J. Micro/Nanolithogr., MEMS, MOEMS · 2018 · 17 · 02350510.1117/1.JMM.17.2.023505 ↗
33. Castellanos · Proc. SPIE · 2018 · 10583 · 10583A10.1117/12.2297167 ↗
34. Wu · J. Micro/Nanolithogr., MEMS, MOEMS · 2019 · 18 · 01350410.1117/1.JMM.18.1.013504 ↗
35. Wu · J. Mater. Chem. C · 2019 · 7 · 3310.1039/c8tc05273e ↗
36. Thakur · Proc. SPIE · 2019 · 10957 · 109570D10.1117/12.2514814 ↗
37. Wu · J. Mater. Chem. C · 2020 · 8 · 1475710.1039/d0tc03216f ↗
38. Brouwer · J. Photopolym. Sci. Technol. · 2022 · 35 · 8110.2494/photopolymer.35.81 ↗
39. Thakur · ACS Mater. Au · 2022 · 2 · 34310.1021/acsmaterialsau.1c00059 ↗
40. Mattson · Proc. SPIE · 2018 · 10583 · 105830910.1117/12.2300064 ↗
41. Evrard · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2024 · 16 · 4294710.1021/acsami.4c08636 ↗
42. Frederick · Proc. SPIE · 2018 · 10586 · 105860710.1117/12.2297484 ↗
43. Kim · Adv. Funct. Mater. · 2025 · 35 · 250300210.1002/adfm.202503002 ↗
44. Singh · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2025 · 17 · 5256710.1021/acsami.5c09589 ↗
45. Hinsberg · Proc. SPIE · 2017 · 10146 · 101460410.1117/12.2260265 ↗
46. Maas · J. Micro/Nanolithogr., MEMS, MOEMS · 2018 · 17 · 04100310.1117/1.jmm.17.4.041003 ↗
47. Needham · Proc. SPIE · 2020 · 11323 · 113230G
48. Belete · J. Micro/Nanopattern. Mater. Metrol. · 2021 · 20 · 01480110.1117/1.jmm.20.1.014801 ↗
49. Hansen · J. Micro/Nanopattern. Mater. Metrol. · 2022 · 21 · 04140510.1117/1.jmm.21.4.041405 ↗
50. Fernández Míguez · J. Appl. Phys. · 2024 · 136 · 023570210.1063/5.0239120 ↗
51. Needham · Proc. SPIE · 2024 · 12957 · 12957110.1117/12.3010941 ↗
52. Eychenne-Baron · J. Organomet. Chem. · 1998 · 567 · 13710.1016/S0022-328X(98)00676-7 ↗
53. Van Lokeren · J. Phys. Chem. C · 2010 · 114 · 1608710.1021/jp100709j ↗
54. Zhang · Appl. Phys. Lett. · 2021 · 118 · 17190310.1063/5.0047269 ↗
55. Mojarad · Microelectron. Eng. · 2015 · 143 · 5510.1016/j.mee.2015.03.047 ↗
56. Raabe · Rev. Sci. Instrum. · 2008 · 79 · 11370410.1063/1.3021472 ↗
57. Pollentier · Proc. SPIE · 2009 · 7271 · 72714610.1117/12.814862 ↗
58. Henke · At. Data Nucl. Data Tables · 1993 · 55 · 18110.1006/adnd.1993.1013 ↗
59. Haitjema · Phys. Chem. Chem. Phys. · 2024 · 26 · 598610.1039/d3cp05428d ↗
60. https://henke.lbl.gov/optical_constants/ , accessed June 21, 2024
61. Sadegh · J. Phys. Chem. C · 2024 · 128 · 396510.1021/acs.jpcc.3c07480 ↗
62. Sharps · Chem. Mater. · 2019 · 31 · 484010.1021/acs.chemmater.9b01440 ↗
63. Bespalov · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2020 · 12 · 988110.1021/acsami.9b19004 ↗
64. Diulus · ACS Appl. Nano Mater. · 2020 · 3 · 226610.1021/acsanm.9b02387 ↗
65. Haitjema · Phys. Chem. Chem. Phys. · 2021 · 23 · 2090910.1039/D1CP03148A ↗
66. Linstrom · J. Chem. Eng. Data · 2001 · 46 · 105910.1021/je000236i ↗
67. Dorney · Proc. SPIE · 2025 · 13428 · 134281C10.1117/12.3051260 ↗
68. Stein · Anal. Chem. · 2012 · 84 · 727410.1021/ac301205z ↗
69. Pollentier · Proc. SPIE · 2013 · 8679 · 86790K10.1117/12.2011541 ↗
70. Banse · Inorg. Chem. · 1995 · 34 · 637110.1021/ic00129a023 ↗
71. Ma · ACS Appl. Mater. Interfaces · 2022 · 14 · 551410.1021/acsami.1c12411 ↗
72. Jones · Pure Appl. Chem. · 2020 · 92 · 186110.1515/pac-2018-1215 ↗
73. Morganroth · J. Am. Chem. Soc. · 1966 · 88 · 538710.1021/ja00975a004 ↗
74. Castellanos · Proc. SPIE · 2024 · 12957 · 129570710.1117/12.3010921 ↗
75. Balasuryia · Environ. Sci. Technol. Lett. · 2025 · 12 · 123810.1021/acs.estlett.5c00688 ↗
76. Swain · J. Am. Chem. Soc. · 1953 · 75 · 14110.1021/ja01097a041 ↗
77. Neils · Helv. Chim. Acta · 2024 · 107 · 310.1002/hlca.202400103 ↗
78. Goldberg · J. Phys. Chem. Ref. Data · 2002 · 31 · 23110.1063/1.1416902 ↗
79. Murken · Z. Anorg. Allg. Chem. · 1973 · 397 · 11710.1002/zaac.19733970204 ↗
80. Sadegh · J. Photopolym. Sci. Technol. · 2023 · 36 · 37310.2494/photopolymer.36.373 ↗
81. Kim · Macromolecules · 2020 · 53 · 474810.1021/acs.macromol.9b02378 ↗
82. Yang · Langmuir · 2025 · 41 · 2656510.1021/acs.langmuir.5c02055 ↗