Ion beam etching of anodic aluminium oxide barrier layer for Au nanorod-based hyperbolic metamaterials
Source abstract
Abstract
Ion beam etching of the anodic aluminium oxide barrier layer is demonstrated to be an effective and reproducible technique for preparing low-porosity templates for hyperbolic metamaterials with a certain spectral position of epsilon-near-zero point.
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Research context
OpenAlex topics: Anodic Oxide Films and Nanostructures · Semiconductor materials and devices · Photonic Crystals and Applications
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Affiliations
Ariel University, Ariel, 40700, Israel
Lomonosov Moscow State University, Moscow, 119991, Russia
Institute of Nanotechnology of Microelectronics of the Russian Academy of Sciences, Moscow, 119991, Russia
Funding
Russian Science Foundation
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