Application of sputtered ceramic TiC/a:C thin films with different structures by changing the deposition parameters
Source abstract
Abstract
Abstract Titanium carbide‐based thin films have been produced by DC magnetron sputtering. It was demonstrated that the same technology with changing of the deposition parameters, such as deposition temperature or power of Ti target, resulted in the preparation of TiC/a:C thin films with various structures. The structure of thin films and volume fraction of amorphous and crystal phases were precisely tailored by the control of deposition parameters. These ceramic nanocomposite TiC/a:C thin films according to their various structures, hence, their different mechanical, tribological, or wetting parameters can be used in wide range of applications.
Source: crossref · Quality: baseline
Research context
OpenAlex topics: Advanced materials and composites · Metal and Thin Film Mechanics · Semiconductor materials and devices
SciVX discovery tags are terminology-based. OpenAlex topics are source-provided classifications.
Affiliations
Centre for Energy Research Institute of Technical Physics and Materials Science Budapest Hungary
References (56)
Show source-provided references
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