Atomic Layer Deposition of Uniform Metal Coatings on Highly Porous Aerogel Substrates
Source abstract
Abstract
In this communication, we use atomic layer deposition (ALD) as a means for depositing tungsten metal coatings on the skeletal network of highly porous aerogel substrates. The approach presented here could be extended to a wide range of metals and aerogels, allowing for the design of metal nanostructures with controlled properties.
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Research context
OpenAlex topics: Catalytic Processes in Materials Science · Nanoporous metals and alloys · Aerogels and thermal insulation
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Affiliations
Lawrence Livermore National Laboratory, Chemistry and Material Science Directorate, Livermore, California 94551, and Argonne National Laboratory, Energy Systems Division, Argonne, Illinois 60439
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